在半導(dǎo)體行業(yè)中，涂膠機(jī)是光刻前道涂膠顯影的重要設(shè)備之一。它作為光刻機(jī)的輸入，在曝光前對(duì)晶圓表面進(jìn)行光刻膠的涂覆。在光刻涂膠顯影設(shè)備的技術(shù)中，保證膠膜的涂覆均勻性是一個(gè)重要的難題。眾多設(shè)備廠商和研究人員都需要關(guān)注如何通過(guò)精確供膠的方式來(lái)高效控制膠膜的厚度和均勻性。
在涂膠工藝中，膠膜的厚度和均勻性對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量有重要影響。以下是其影響方面的詳細(xì)說(shuō)明：
分辨率和圖案保真度：光刻膠涂覆的膠膜厚度和均勻性直接影響到芯片的分辨率和圖案的保真度。如果膠膜厚度不均勻，部分區(qū)域的膠膜厚度可能不足以有效屏蔽光線，導(dǎo)致曝光過(guò)程中出現(xiàn)分辨率降低或圖案形狀變形的問(wèn)題。
顯影效果：光刻膠的顯影過(guò)程中，顯影液對(duì)膠膜的腐蝕程度與膠膜的厚度直接相關(guān)。如果膠膜厚度不均勻，顯影液在不同區(qū)域的腐蝕速度可能有差異，導(dǎo)致顯影不完全或出現(xiàn)不一致的顯影效果。
芯片性能和可靠性：膠膜厚度和均勻性對(duì)芯片的性能和可靠性也有影響。在器件制造過(guò)程中，不同層次的膠膜厚度需要精確控制，以確保器件的電學(xué)特性和結(jié)構(gòu)特征符合設(shè)計(jì)要求。如果膠膜厚度偏離規(guī)定范圍或不均勻，可能導(dǎo)致器件參數(shù)偏差、性能下降或故障發(fā)生。
產(chǎn)品良品率：膠膜厚度和均勻性對(duì)產(chǎn)品的良品率有直接影響。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，不同工序的膠膜厚度需要滿足特定要求，如光刻膠的薄膜層、介質(zhì)層或絕緣層等。如果膠膜厚度不均勻，可能導(dǎo)致一些產(chǎn)品無(wú)法滿足規(guī)格要求，從而影響整體的產(chǎn)品良品率。
因此，在涂膠工藝中，確保膠膜的厚度和均勻性對(duì)于保證產(chǎn)品質(zhì)量、性能和可靠性非常重要。通過(guò)使用德國(guó)彗諾微量泵可以精確控制涂膠參數(shù)，可以有效地控制膠膜的厚度和均勻性，提高產(chǎn)品的制造質(zhì)量和良品率。
為了滿足高精度涂膠的要求，德國(guó)彗諾HNPM微量供膠泵可以穩(wěn)定地供給光刻膠和丙酮，實(shí)現(xiàn)對(duì)供膠量、供膠速度等參數(shù)的精確控制。它與可編程控制器搭配使用，能夠?qū)崿F(xiàn)膠液的均勻涂覆，利用回縮效應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)無(wú)滴注膠的效果，從而提高涂膠的均勻性和產(chǎn)品的良品率。
德國(guó)彗諾HNPM mzr-4605和mzr-7205微量供膠泵可用于半導(dǎo)體光刻膠涂覆工藝，實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠涂膠時(shí)的供膠量和供膠速度進(jìn)行控制，保證涂覆的均勻性。
德國(guó)彗諾HNPM mzr-4605和mzr-7205微量供膠泵具有連續(xù)、平穩(wěn)的體積流量（低脈動(dòng)），高精度，高重復(fù)性，使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)。
與本文關(guān)聯(lián)的產(chǎn)品:
